2025-12-07 阅读(1)

光刻技术在现代半导造等领域占据着核心地位，其中光刻dof是一个重要概念。光刻dof，即光刻景深，它对于光刻工艺的精度和质量有着关键影响。光刻景深指的是在光刻过程中，能够保证光刻图形质量的焦深范围。在半...

2025-11-06 阅读(1)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，它涉及到将图案转移到硅片等基底上。而在光刻工艺中，HMDS（六甲基二硅胺烷）是一种常用的试剂，但其毒性问题备受关注。本文将深入探讨光刻工艺中 HMDS 的毒性及其相关...

2025-10-04 阅读(3)

光刻是半导造中至关重要的工艺，而光刻 CDU（光刻对准与曝光系统）和 CDCDU（临界尺寸控制与检测系统）在光刻过程中起着不同但都极为重要的作用。它们的区别主要体现在功能、工作原理、应用场景等多个方面...