2025-12-09 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片性能和制造效率起着决定性作用。而光刻中的焦深（DOF）是一个至关重要的参数，它直接关系到光刻工艺的稳定性和最终芯片的良品率。焦深（DOF）指的是在光刻过程中...

2025-12-08 阅读(5)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能和集成度起着决定性作用。在光刻工艺中，有一个重要的参数——光刻景深（DOF），它直接影响着光刻图案的质量和精度。了解光刻DOF的计算方法，对于优化光刻...

2025-12-07 阅读(3)

光刻技术在现代半导造等领域占据着核心地位，其中光刻dof是一个重要概念。光刻dof，即光刻景深，它对于光刻工艺的精度和质量有着关键影响。光刻景深指的是在光刻过程中，能够保证光刻图形质量的焦深范围。在半...

2025-10-04 阅读(5)

光刻是半导造中至关重要的工艺，而光刻 CDU（光刻对准与曝光系统）和 CDCDU（临界尺寸控制与检测系统）在光刻过程中起着不同但都极为重要的作用。它们的区别主要体现在功能、工作原理、应用场景等多个方面...