2026-01-07 阅读(1)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺，其发展历程充满了无数的创新与突破。从最初的概念萌芽到如今成为推动芯片产业飞速发展的关键力量，光刻技术的每一步都凝聚着科学家们的智慧与汗水。它不仅见证了半导体行业的兴起...

2025-12-08 阅读(5)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能和集成度起着决定性作用。在光刻工艺中，有一个重要的参数——光刻景深（DOF），它直接影响着光刻图案的质量和精度。了解光刻DOF的计算方法，对于优化光刻...

2025-10-07 阅读(8)

光刻资讯中，光刻 CD 值是一个至关重要的参数。它直接影响着芯片制造的精度和性能，对于半导体行业的发展起着关键作用。本文将深入探讨光刻 CD 值的，包括其定义、影响因素以及在实际应用中的重要性。光刻 ...