2025-11-18 阅读(1)

光刻资讯中，光刻 OVL 十项补值的计算是一个关键且复杂的过程。它涉及到多个因素的综合考量，对于光刻工艺的精准控制和产品质量的提升具有重要意义。本文将深入探讨光刻 OVL 十项补值的计算方法及其在光刻...

2025-11-13 阅读(2)

光刻技术作为半导造领域的核心关键技术，在芯片制造过程中起着举足轻重的作用。它决定着芯片的性能、集成度以及最终的良率。光刻ovl（Overlay，套刻精度）是光刻工艺中极为关键的参数，它描述的是不同光刻...

2025-10-03 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能和制程提升起着关键作用。随着半导体技术不断向更小尺寸节点迈进，光刻的精度和稳定性要求也越来越高，其中关键尺寸均匀性（CDU）的改善成为了光刻领域的重要...