2025-10-31 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心技术之一，在集成电路的生产中扮演着至关重要的角色。随着科技的飞速发展，电子产品越来越追求高性能、小型化，这就要求集成电路的集成度不断提高，而光刻技术正是实现这一目标的关键...

2025-10-02 阅读(3)

光刻资讯中，光刻 CDU（Critical Dimension Uniformity）即关键尺寸均匀性，是光刻工艺中的一个重要指标。它直接影响着芯片的性能和良率，对于半导造来说至关重要。本文将详细介绍...