2025-11-17 阅读(1)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能、集成度等起着决定性作用。在光刻领域，光刻oVl（Overlay，套刻精度）数据的分析至关重要。光刻oVl数据分析能够帮助工程师及时发现光刻过程中存在...

2025-10-03 阅读(3)

光刻技术作为半导造过程中的核心环节，对于芯片的性能和制程提升起着关键作用。随着半导体技术不断向更小尺寸节点迈进，光刻的精度和稳定性要求也越来越高，其中关键尺寸均匀性（CDU）的改善成为了光刻领域的重要...

2025-10-02 阅读(3)

光刻技术在半导造领域占据着至关重要的地位，而光刻CDU（Critical Dimension Uniformity，关键尺寸均匀性）作为衡量光刻工艺精度和稳定性的关键指标，对于芯片制造的良率和性能有着...