2025-10-01 阅读(3)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，而光刻胶正胶和反胶在光刻工艺中起着不同的作用。它们在化学性质、曝光特性、显影特性等方面存在着明显的区别，这些区别影响着光刻工艺的精度、分辨率和可靠性。光刻胶正胶是一种...

2025-09-30 阅读(3)

光刻工艺是半导造中至关重要的一环，而光刻的正胶和反胶在其中扮演着不同的角色。正胶和反胶的特性差异影响着光刻图案的形成和质量，对半导体器件的性能有着深远的影响。光刻工艺是通过光化学反应将光刻胶图案转移到...