光刻工艺 光刻胶正负胶的区别 2025-09-29 阅读(3) 光刻工艺是半导造领域的核心技术之一,它在芯片制造过程中起着至关重要的作用。光刻胶作为光刻工艺中不可或缺的材料,分为正胶和负胶两种类型,它们在性质、工作原理及应用场景等方面存在着显著区别。光刻胶是一种对...