2025-09-29 阅读(2)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，而光刻胶正胶和负胶在其中发挥着不同的作用。光刻胶正胶在曝光后会发生化学变化，而未曝光的部分在显影过程中被去除；负胶则相反，曝光部分在显影后保留，未曝光部分被去除。这两...