2025-09-29 阅读(3)

光刻工艺是半导造领域的核心技术之一，它在芯片制造过程中起着至关重要的作用。光刻胶作为光刻工艺中不可或缺的材料，分为正胶和负胶两种类型，它们在性质、工作原理及应用场景等方面存在着显著区别。光刻胶是一种对...

2025-09-28 阅读(4)

光刻工艺是现代半导造中至关重要的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能表现。在光刻工艺中，正胶和负胶是两种常用的光刻胶材料，它们各自具有独特的特性，因此关于正胶和负胶哪个更好的讨论一直存在。正胶，全...