2025-09-28 阅读(4)

光刻工艺是现代半导造中至关重要的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能表现。在光刻工艺中，正胶和负胶是两种常用的光刻胶材料，它们各自具有独特的特性，因此关于正胶和负胶哪个更好的讨论一直存在。正胶，全...