2025-09-28 阅读(0)

光刻工艺是现代半导造中至关重要的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能。在光刻工艺中，正胶和负胶是两种常用的光刻胶材料，它们在性质、工作原理和应用场景等方面存在着显著的区别。正胶，全称正性光刻胶，是...