光刻工艺 光刻工艺的八个基本步骤 2026-01-22 阅读(2) 光刻工艺作为半导造领域的核心技术,对于芯片性能和集成度起着决定性作用。它的八个基本步骤紧密相连,共同构建起芯片制造的微观世界。光刻工艺的第一步是光刻胶涂覆。在这一过程中,洁净的晶圆被放置在光刻设备的工...