2025-12-24 阅读(5)

光刻设备作为半导造的核心装备，其光刻机真空系统原理至关重要。在半导体芯片制造过程中，光刻环节是将芯片设计图案精准转移到半导体晶圆上的关键步骤，而光刻机真空系统则为这一过程提供了稳定且精确的环境保障。光...

2025-12-18 阅读(3)

光刻设备是现代半导造领域的核心装备，光刻机真空系统则是其关键组成部分。光刻机真空系统对于光刻工艺的精确性和稳定性起着至关重要的作用。在光刻设备中，光刻机真空系统包含多个重要的子系统。首先是主真空系统，...