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光刻八个步骤

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光刻技术作为半导造领域的核心工艺,一直以来都是推动芯片产业不断向前发展的关键力量。它通过精确地将芯片设计图案转移到半导体晶圆表面,为后续的芯片制造奠定基础。光刻效果图则是光刻技术实际成果的直观展示,每...

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光刻DOFwindow的计算方法

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光刻技术作为半导造中的核心工艺,在集成电路的发展历程中起到了至关重要的作用。随着集成电路特征尺寸的不断缩小,对光刻工艺的精度和可靠性要求也日益提高。在光刻过程中,有一个关键的概念——光刻DOF win...