2026-01-18 阅读(1)

光刻设备与光刻工艺在现代半导造领域占据着核心地位，其对于芯片性能和制程技术的提升有着举足轻重的作用。光刻设备作为一种精密的光学仪器，它能够将芯片设计图案精准地转移到半导体晶圆表面，为后续的芯片制造工艺...

2025-12-24 阅读(2)

光刻设备在半导造领域占据着核心地位，其技术的不断革新推动着芯片制程向更小的尺寸迈进。而光刻工艺仿真软件则是这一过程中不可或缺的辅助工具，它为光刻工艺的优化与创新提供了强大的支持。光刻设备是将芯片设计图...

2025-11-08 阅读(3)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺之一，对于芯片性能和制造效率起着至关重要的作用。光刻PEB（Post Exposure Bake，曝光后烘焙）工艺则是光刻流程中的关键环节，它直接影响着光刻图案的质量和...

2025-11-07 阅读(4)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，它能够精确地将图案转移到硅片等基板上。而在光刻工艺中，Barrier Coat（简称 Barc）的使用具有重要意义，它在提高光刻精度、减少缺陷等方面发挥着关键作用。光...