2025-12-07 阅读(0)

光刻技术作为半导造中的核心工艺，在集成电路的发展历程中起到了至关重要的作用。随着集成电路特征尺寸的不断缩小，对光刻工艺的精度和可靠性要求也日益提高。在光刻过程中，有一个关键的概念——光刻DOF win...

2025-12-05 阅读(1)

光刻技术作为现代半导造领域的核心技术之一，犹如一把神奇的雕刻刀，在半导体芯片的微观世界里书写着科技的传奇。它是将掩膜版上的图形精确转移到半导体晶圆表面的光刻胶层上的过程，这一过程对于芯片制造的精度、性...

2025-12-05 阅读(0)

光刻技术是现代半导造领域的核心技术之一，它对于芯片等微纳结构的制造起着至关重要的作用。光刻的原理基于光学、化学等多学科知识，通过一系列精确的流程来实现微小图案的精准转移。光刻的原理主要基于光的干涉、衍...

2025-11-06 阅读(1)

光刻工艺是现代半导造中极为关键的一环，它决定了芯片上电路的精细程度和性能。其中，HMDS（六甲基二硅氮烷）在光刻工艺中扮演着重要角色。在光刻工艺开始前，晶圆表面需要进行预处理，以确保光刻胶能够良好地附...