2025-11-09 阅读(4)

光刻工艺作为半导造领域的核心技术，对于芯片性能与集成度起着决定性作用。其中，数值孔径是光刻工艺中一个极为关键的参数，它对光刻的分辨率、焦深以及曝光能量等多个方面都有着深远影响。数值孔径（NA）是指光学...

2025-11-07 阅读(1)

光刻工艺是半导造中至关重要的一步，它能够精确地将图案转移到硅片等基板上。而在光刻工艺中，Barrier Coat（简称 Barc）的使用具有重要意义，它在提高光刻精度、减少缺陷等方面发挥着关键作用。光...

2025-11-05 阅读(3)

光刻工艺是半导造中至关重要的环节，它决定了芯片的精细程度和性能。在光刻工艺中，HMDS（六甲基二硅胺烷）的作用不可忽视，其厚度的控制对于光刻工艺的成功与否有着直接的影响。本文将深入探讨光刻工艺中 HM...

2025-11-01 阅读(1)

光刻工艺是现代半导造领域中至关重要的一项技术，它对于芯片的性能和集成度起着决定性作用。在光刻工艺的众多环节和材料中，HMDS扮演着独特且关键的角色。光刻工艺，作为芯片制造的核心步骤，旨在将设计好的电路...