2026-01-20 阅读(1)

光刻，作为半导造领域的核心工艺，在现代科技发展中扮演着举足轻重的角色。它涉及到一系列复杂而精密的操作，包括添加、移除、图形化以及加热等多个关键环节。光刻的本质是一种微纳加工技术，旨在将设计好的电路图案...

2026-01-15 阅读(2)

光刻是现代半导造中极为关键的一项工艺，它对于芯片等集成电路的生产起着决定性作用。光刻，简单来说，就是通过一系列技术手段，将芯片设计版图精确地转移到半导体衬底上的过程。光刻工艺的原理基于光学成像原理。设...

2025-11-08 阅读(3)

光刻技术作为半导造领域的核心工艺之一，对于芯片性能和制造效率起着至关重要的作用。光刻PEB（Post Exposure Bake，曝光后烘焙）工艺则是光刻流程中的关键环节，它直接影响着光刻图案的质量和...

2025-10-28 阅读(5)

光刻工艺是半导造过程中至关重要的一环，它如同精细的雕刻师，在半导体晶圆上绘制出微小而复杂的电路图案。光刻技术的精度直接决定了芯片的性能和集成度，是推动半导体产业不断发展进步的核心力量。从早期的微米级到...